국내 치의학 SCIE 저널 중 최고 점수 경신
대한치주과학회(회장 허익)는 학회 공식 학술지 JPIS(Journal of Periodontal & Implant Science)의 2020년 논문인용지수(Impact Factor, IF)가 2019년 1.472에서 2.614로 상승해 세계 치과계 SCIE 등재 국제학술지 91개 중 42위로 전년에 이어 상위 50%(Q2) 그룹에 속했다고 7일 밝혔다.
영국 Clarivate사가 최근 발표한 2020년 논문인용지수에 따르면 JPIS는 2014년 SCIE에 들어간 이후 처음으로 IF 2.0을 넘었다.
특히 JPIS에서 인용된 결과(self-citation)를 제외하더라도 2.543이라는 높은 수치로 다른 저널에서 JPIS 논문을 많이 인용하는 결과를 보였다고 학회 측은 설명했다.
1971년 창간되어 2010년 영문학술지로 변경된 JPIS는 2014년 SCIE 진입 이후 최근 5년간 IF가 지속적으로 상승하면서 우수한 성과를 보이고 있다.
신승윤 편집장(경희대), 박준범 편집이사(서울성모병원), 박신영(서울대), 박정철(단국대), 김용건(경북대) 편집실행이사와 편집위원들이 발행을 담당한다.
신승윤 편집장은 “SCIE 등재 7년 만에 2점대 이상의 논문인용지수를 기록한 것은 고무적이지만, 치과계 학술지 순위가 오히려 약간 하락한 것은 앞으로 상위 25% 이내로 진입하기 위해 노력할 부분이 많다는 의미이므로 논문의 질적 향상과 함께 출판윤리, 국제요소 강화를 위해 더 힘을 쏟겠다”고 말했다.
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